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晶體高溫熱處理爐
晶體高溫熱處理爐
產品描述:
晶體高溫熱處理爐主要用于晶體制品在保護氣氛下的高溫純化處理
應用范圍:
晶體制品

晶體高溫熱處理爐技術特征

電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

電阻爐采用頂立科技專屬超高溫、大電流引電技術,能在高溫條件下長時間穩定使用,也可采用感應加熱方式;

可選配全密閉馬弗室,密封效果好,抗污染能力強;

多級高效尾氣處理系統,環境友好,易清理;

適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar。

晶體高溫熱處理爐產品規格

參數\型號HVG-100510HVG-130515HVG-151530HVG-201840VVG-1120VVG-1520VVG-2020VVG-3012
工作區尺寸 W×H×L(mm)1000×500×10001300×500×15001500×1500×30002000×1800×40001100×20001500×20002000×20003000×1200
最高溫度(℃)20002000200020002000200020002000
溫度均勻性(℃)±5±7.5±10±15±10/±15±10/±15±15/±20±10/±15
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.670.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

晶體高溫熱處理爐配置選擇

結構形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式:手動/自動

爐殼材質:內層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質:碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈

加熱器、馬弗材質:石墨/CFC

熱電偶:C分度號

紅外儀:單比色/雙比色

真空泵:機械泵組/耐腐蝕泵組

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半導體材料熱工裝備

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